Hoher Reinheitsgrad-Titan-Spritzenziele für PVD-Vakuumbeschichtungs-Maschine

Hochreine Titanspritzerziele für PVD-Vakuumbeschichtungsmaschinen

- Ich weiß.

Zielstoffe für die Sputterung mit hoher Reinheit aus Titan

Grundvoraussetzungen für Titan-Sputterziele:

Im Allgemeinen werden folgende Indikatoren berücksichtigt, wenn gemessen wird, ob das Sputterziel die Hauptvoraussetzungen erfüllt:

Reinheit: Die Reinheit hat einen großen Einfluss auf die Leistungsfähigkeit der gespritzten Folie.elektrische und optische Eigenschaften der gespritzten Folie.

Verunreinigungsanteil: Verunreinigungen im Zielfest und Sauerstoff und Wasserdampf in den Poren sind die wichtigsten Verschmutzungsquellen des Ablagerungsfilms.Verschiedene Zielmaterialien haben unterschiedliche Anforderungen an ihren Verunreinigungsgehalt.

Dichte: Die Dichte des Ziels beeinflusst nicht nur die Sputterrate, sondern auch die elektrischen und optischen Eigenschaften des Films.zur Verringerung der Porosität im Zielfeststoff und zur Verbesserung der Leistungsfähigkeit des Sputterfolios, muss das Ziel in der Regel eine hohe Dichte aufweisen.

Korngröße und Kornverteilung: Bei demselben Ziel ist die Sputtergeschwindigkeit des feinen Kornziels schneller als die des groben Kornziels;Je kleiner der Partikelgrößenunterschied (einheitliche Verteilung), je gleichmäßiger die Dicke des Ziel-Sputter-Ablagerungsfolios ist.

Detaillierte Bilder:

Verpackung:Jedes Titan-Ziel ist in einem individuellen Vakuum-Plastikbeutel verpackt, gefüllt mit Schaumfolie und Perlenbaumwolle in der Mitte, und ein fumigationsfreies Sperrholzgehäuse draußen.Einhaltung internationaler Verkehrsnormen, um sicherzustellen, dass die Waren bei ihrem Transport sicher sind.

Über unsere Firma: