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Einzelheiten zu den Produkten

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Titanziel
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99,6% Runden-Titan-Spritzenziel-Hardware der Reinheits-GR1 GR2

99,6% Runden-Titan-Spritzenziel-Hardware der Reinheits-GR1 GR2

Markenbezeichnung: LHTI
Modellnummer: LH-10
MOQ: 10 Stücke
Preis: US dollar $ 25.5/pc--US dollar $125/pc
Zahlungsbedingungen: L/C, D/P, T/T, Western Union, paypal usw.
Versorgungsfähigkeit: 5000-teilig pro Woche
Einzelheiten
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO9001
Produktbezeichnung:
Hoher Reinheitsgrad pvd fertigte Titanspritzenziel Metallziel besonders an
Material:
Reines Titan, Titanlegierung
Anwendung:
Verschiedene beschichtende Industrien, wie Werkzeugbeschichtung, optische Beschichtung, Solarenergie
Schlüsselwort:
Titanspritzenziel
Paket:
Sperrholzkiste oder Übereinstimmung Ihrer Anforderung
Verpackung Informationen:
Perlenbaumwollverpackung oder das Siegelverpacken, ist- draußen Standardkartonkasten oder -Sperrholz
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
5000-teilig pro Woche
Hervorheben:

99

,

6% Reinheits-Titanziel

,

Titanspritzenziel-Hardware

Produktbeschreibung

 

 

 

Das Wort "Ziel" in "Titan-Sputtering-Ziel" kommt von den üblichen Zielmitteln in unserem täglichen Leben.das Beschichtungsmaterial wird durch einen Elektronenstrahl oder einen Ionenstrahl bombardiert, so wie das Ziel getroffen wird, so dass das Material, das im Sputtering-Prozess verwendet wird, das "Sputtering-Ziel" genannt wird.

 

Von Metall-Titan zum Titansprutterziel

Ein Titanspritzerziel ist ein Titanprodukt, das aus Titanmetall als Rohstoff hergestellt wird und zur Herstellung von Titanfolie durch Sputtering verwendet wird.Es gibt zwei Methoden zur Herstellung von Titan-Sputtering-Ziel mit Metall-Titan-Gussmethode und Pulvermetallurgie-Methode.

 

Gießen: Die Rohstoffe in einem bestimmten Verhältnis schmelzen, die Legierungslösung in die Form in Ingots gießen und schließlich in Sprühziele verarbeiten.Die Methode besteht darin, im Vakuum zu schmelzen und zu gießen.

 

Pulvermetallurgie: Man schmilzt die Rohstoffe in einem bestimmten Anteil, gießt sie in Ingots, zerkleinert sie, drückt das Pulver isostatisch und sintert sie dann bei hoher Temperatur zu Zielen.

 

 

Produktbezeichnung: Titan-Zielsputtering

Material: reines Titan: GR1 GR2

Reinheit >= 99,6%

Anwendung:Hardware, Dekoration, Werkzeuge, Keramik, Golf und andere Beschichtungsindustrien.

Abmessungen:

Rundes Sputterziel: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 und andere spezifische Größen.

 

Ziel für das Sputtern von Rohren: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm und andere spezifische Größen.

 

Ziel für die Plattensputterung: T6-40×W60-800×L600-2000mm und andere spezifische Größen.

Wir können die Alloy-Ziele in verschiedenen Proportionen nach Kundenbedarf anpassen.

 

Detaillierte Bilder:

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Material:

1) Ziel für Ti/Al-Legierung (67:33,50:50at%)

 

2) Ziel für W/Ti-Legierung (90:10 wt%),

 

3) Ziel für Ni/V-Legierungen (93:7, wt%)

 

4) Ziel für Ni/Cr-Legierung (80:20, 70:30, wt%),

 

5) Ziel für Al/Cr-Legierung (70:30,50:50at%)

 

6) Ziel für Nb/Zr-Legierung (97:3,90:10 wt%)

 

7) Ziel für Si/Al-Legierungen (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, wt%)

 

8) Ziel für Zn/Al-Legierungen

 

9) Ziel für hochreines Chrom (99,95%, 99,995%)

 

10) Ziel für Al/Cr-Legierung (70:30, 50:50, 67:33, bei%)

 

11) Ziel für Ni/Cu-Legierungen (70:30, 80:20, wt%)

 

12) Ziel für Al/Nd-Legierungen (98:2 wt%)

 

13) Ziel für Mo/Nb-Legierung (90:10, wt%)

 

14) Ziel für TiAlSi-Legierung (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10,wt% und bei%)

 

15)CrAlSi-Legierungsziel (Cr/Al/Si=30/60/10,wt% und bei%)

 

 

3.Fabrik

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4.Verpackung und Lieferung

 

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- Ein.Die versiegelte Verpackung wird dann in die Kartonkasse oder in das Standard-Standard-Kiss aus Sperrholz gelegt.

- Zwei.Exklusive Kartons mit dem Kundenlogo, jede einzelne Verpackung, um Käufern den Verkauf zu ermöglichen.

--- Annahme der Kundenanforderungen

 

Stellen Sie sicher, dass jedes Paket für Sie maßgeschneidert ist.

 

 

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