Hochreines Titan-Sputtertarget ASTM B348

Hochreines Titan-Sputtertarget ASTM B348

Dieses hochreine Titan-Sputtertarget wird aus Titan der Güte 1, 2, 5, 7 und 12 mit einem Titananteil von mindestens 99,5 % und einem Verunreinigungsgehalt von unter 0,04 % hergestellt. Die Targets werden nach ASTM B348 und ASTM B381 geschmiedet und CNC-bearbeitet mit einer Dichte von 4,51 oder 4,50 g/cm3. Legierungstargets wie Ti-Al, Ti-Cr und Ti-Zr sowie Chrom, Zirkonium, Kupfer und Wolfram können ebenfalls geliefert werden.

Technische Spezifikationen

Verfügbare Targetformen und -größen

Anwendungen & Vorteile von Titan

Titan-Sputtertargets werden in der Halbleiter-Trennung, bei der Beschichtung von Filmen, bei der Beschichtung von Speicherelektroden, bei der Sputterbeschichtung, bei der Oberflächenbeschichtung und in der Glasbeschichtungsindustrie eingesetzt. Die Reinheit beeinflusst stark die Leistung des gesputterten Films, da höhere Reinheit eine bessere Korrosionsbeständigkeit sowie bessere elektrische und optische Eigenschaften ergibt. Verunreinigungen im festen Target, zusammen mit Sauerstoff und Wasserdampf, die in Poren eingeschlossen sind, sind die Hauptursachen für Filmkontaminationen, und die Dichte beeinflusst sowohl die Sputterrate als auch die elektrische und optische Qualität des Films. Eine feine und gleichmäßig verteilte Kornstruktur sputtert schneller und erzeugt eine gleichmäßigere Filmdicke.

Qualität, Anpassung & Anfrage

Die Targets werden unter ISO9001-Qualitätskontrolle geschmiedet und CNC-bearbeitet und in Vakuum-Plastiktüten mit Schaumstoff und Perlenbaumwolle in einer Begasungsfreien Sperrholzkiste verpackt, um internationale Transportstandards zu erfüllen. Form, Größe, Güte und Menge können kundenspezifisch angepasst werden, die monatliche Kapazität beträgt 5000 Stück und die Lieferung dauert normalerweise 15-20 Tage. Bitte senden Sie uns Ihre Targetform, Abmessungen, Reinheitsanforderungen und Menge, damit wir Ihnen ein Angebot erstellen können.